Transistor 2D: Pechino svela il futuro più veloce ed efficiente dei chip

I ricercatori dell’Università di Pechino hanno recentemente annunciato un’innovazione potenzialmente epocale nel campo della microelettronica, riguardante la progettazione dei transistor. Questa scoperta, qualora fosse commercializzata con successo, potrebbe imprimere una svolta radicale nella traiettoria di sviluppo dei microprocessori del futuro.

Svolta cinese nei transistor: addio silicio?

Il team cinese è riuscito a creare un transistor che abbandona il tradizionale silicio come materiale semiconduttore. La base di questa innovazione risiede nell’impiego di un materiale bidimensionale, precisamente l’ossiseleniuro di bismuto. L’elemento chiave di questa svolta tecnologica è l’adozione dell’architettura gate-all-around (GAAFET). In questa configurazione avanzata, il gate del transistor avvolge completamente il source, creando un’area di contatto significativamente maggiore rispetto ai tradizionali design FinFET, attualmente dominanti nei processori al silicio.

La tecnologia FinFET, pur rappresentando un significativo avanzamento rispetto alle precedenti architetture planari, presenta una limitazione intrinseca nella copertura del gate attorno al canale conduttore. Questa copertura parziale implica che il campo elettrico generato dal gate esercita un controllo sul flusso di corrente nel canale da un numero limitato di lati.

Al contrario, l’innovativa architettura gate-all-around (GAAFET) introduce un cambiamento radicale in questo paradigma progettuale. Avvolgendo completamente il source con il gate, la struttura GAAFET massimizza l’area di contatto tra questi due elementi cruciali del transistor. Questa estensione della superficie di interazione si traduce in un controllo elettrostatico notevolmente più efficace sul canale.

Un controllo elettrostatico superiore è direttamente correlato a una significativa riduzione della dispersione di energia, un problema sempre più critico man mano che le dimensioni dei transistor continuano a diminuire. La dispersione di energia, che si manifesta come corrente di “leakage” quando il transistor dovrebbe essere in stato di “off”, rappresenta una delle principali sfide nel progettare circuiti integrati ad alta densità e basso consumo. L’architettura GAAFET, grazie al suo controllo omnidirezionale sul canale, minimizza questa corrente di dispersione, contribuendo a una maggiore efficienza energetica complessiva del dispositivo.

La struttura “full-wrap” del gate nel GAAFET 2D consente una modulazione più precisa e rapida del flusso di corrente attraverso il canale. Questa capacità di controllo superiore si traduce in una maggiore velocità operativa del transistor. La rapidità con cui un transistor può commutare tra gli stati “on” e “off” è un fattore determinante per le prestazioni complessive di un microprocessore, influenzando direttamente la sua capacità di eseguire calcoli complessi in tempi brevi.

I promettenti risultati ottenuti nello studio condotto dai ricercatori cinesi suggeriscono che questa nuova implementazione del GAAFET, basata sull’ossiseleniuro di bismuto bidimensionale, possiede un potenziale considerevole per rivaleggiare con le prestazioni dei transistor al silicio, la tecnologia dominante nell’industria dei semiconduttori da decenni.

Anzi, in alcuni parametri critici come la velocità di commutazione e l’efficienza nel consumo energetico, il GAAFET 2D dimostra la capacità di superare le limitazioni intrinseche dei transistor al silicio di ultima generazione. Questa potenziale superiorità apre scenari futuri in cui i microprocessori potrebbero raggiungere livelli di performance e di efficienza energetica precedentemente inimmaginabili, con implicazioni profonde per l’informatica, l’intelligenza artificiale e l’elettronica di consumo in generale.

Le prestazioni rivoluzionarie del transistor 2D

I ricercatori dell’Università di Pechino dichiarano che il loro innovativo transistor bidimensionale raggiunge velocità operative superiori del 40% rispetto ai più recenti chip a 3 nanometri prodotti da Intel. Parallelamente a questo incremento di velocità, il nuovo dispositivo vanta un consumo energetico inferiore del 10%, prestazioni che, secondo il team, lo collocherebbero in una posizione di vantaggio rispetto agli attuali processori sviluppati da colossi del settore come TSMC e Samsung.

La limitata copertura del gate riscontrabile nei progetti di transistor convenzionali rappresenta un collo di bottiglia intrinseco, in quanto ostacola un controllo ottimale del flusso di corrente e incrementa le perdite di energia. La nuova architettura a gate completo, adottata nel transistor 2D cinese, affronta e risolve efficacemente queste problematiche. La struttura GAAFET (Gate-All-Around) garantisce un elevato guadagno di tensione unitamente a un consumo energetico estremamente contenuto. Il team di ricerca ha già dimostrato la fattibilità del design realizzando piccole unità logiche basate su questa nuova tecnologia.

“Si tratta del transistor più veloce ed efficiente mai realizzato“, ha affermato con enfasi l’Università di Pechino in un comunicato ufficiale. Queste affermazioni non sono mere asserzioni teoriche, bensì sono supportate da rigorosi test condotti in condizioni operative identiche a quelle utilizzate per la valutazione dei principali chip commerciali attualmente sul mercato.

Il professor Peng Hailin, lo scienziato a capo del progetto, ha paragonato l’innovazione del suo team a un vero e proprio “cambio di corsia” nello sviluppo dei microprocessori, in netto contrasto con i miglioramenti incrementali apportati ai chip basati su materiali tradizionali, definiti come una “scorciatoia“.

A differenza delle strutture verticali tipiche dei transistor FinFET, il nuovo design del transistor 2D ricorda una serie di “ponti intrecciati“. Questo cambiamento architettonico radicale potrebbe rappresentare la chiave per superare le crescenti limitazioni di miniaturizzazione intrinseche alla tecnologia del silicio, specialmente ora che l’industria si spinge verso dimensioni inferiori alla soglia dei 3 nanometri. Tale miniaturizzazione avanzata potrebbe inoltre apportare benefici significativi nella progettazione di laptop più veloci e potenti, che richiedono chip estremamente compatti.

Il successo di questa innovazione si basa anche sullo sviluppo di due nuovi materiali a base di bismuto: il Bi₂O₂Se, utilizzato come semiconduttore attivo nel canale del transistor, e il Bi₂SeO₅, impiegato come dielettrico di gate. La scelta di questi materiali non è casuale, in quanto essi presentano una bassa energia di interfaccia, una proprietà fondamentale per minimizzare i difetti cristallini e la dispersione degli elettroni, contribuendo così all’efficienza e alle prestazioni superiori del dispositivo.

Flusso elettronico ottimizzato e validazione scientifica

“Questa configurazione permette agli elettroni di muoversi con una resistenza quasi trascurabile, analogamente al flusso d’acqua all’interno di una condotta perfettamente liscia“, ha chiarito il professor Peng, sottolineando l’efficienza intrinseca del nuovo design del transistor.

Le eccezionali prestazioni rivendicate dal team di ricerca non si basano unicamente su osservazioni sperimentali. I risultati ottenuti sono solidamente supportati da sofisticati calcoli derivati dalla teoria funzionale della densità (DFT), un potente strumento computazionale utilizzato per studiare le proprietà elettroniche dei materiali. La validità di questi modelli teorici è stata successivamente confermata attraverso rigorosi test fisici condotti utilizzando una piattaforma di fabbricazione ad alta precisione situata presso la Peking University (PKU).

Un aspetto cruciale che potrebbe facilitare la futura adozione su larga scala di questa tecnologia è la compatibilità con l’attuale infrastruttura industriale dei semiconduttori. I ricercatori sostengono che i nuovi transistor basati sull’ossiseleniuro di bismuto possono essere fabbricati utilizzando le attrezzature e i processi già consolidati nel settore. Questa potenziale integrazione semplificata potrebbe accelerare significativamente il percorso verso la commercializzazione e la diffusione di questa promettente innovazione.

Lo studio è stato pubblicato su Nature Materials.